镭射纸-镭射纸包装印刷-华福包装(商家)

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    2023-8-1

郑志友
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真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶,彩色塑料镭射纸,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法,其优点是加热源的结构简单,造价低廉,操作方便;缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用---电子束直接对被轰击材料加热,电子束的动能变成热能,使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源,但由于大功率激光器的造价---,目前只能在少数研究性实验室中使用。



溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,镭射纸加工价格,离子或中性粒子,镭射纸包装印刷,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压的元素和化合物;溅射膜与基板之间的附着性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂,需要高压装置。此外,将蒸发法与溅射法相结合,即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力,有较高的沉积速率,膜的密度高。
















镀铝膜是近几年出现的新材料,镀铝膜既具有塑料薄膜的特性,又具有金属特性,从一定程度上替代了铝箔。


镀铝膜复合后产生明显的白色或灰点,这些斑点在满版油墨印刷复合过程中为常见:

镀铝膜本身较差,镭射纸,镀层容易剥离,油墨及胶粘剂在其表面产生的粘接力高低不一,在斑点产生处油墨层与镀层粘接力较低,层间紧密度差;没有斑点处镀层已明显转移,层间紧密度好。通过镀铝层反光强弱,形成白色或灰点,其斑点深浅程度与油墨遮盖力有很大关系。遮盖力好,斑点浅;反之,斑点---。采用遮盖力较好的油墨是清除斑点---的方法。






目前应用多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜(vmpet)和cpp 镀铝膜(vmcpp)。薄膜表面镀铝的作用是遮光、---照射,既延长了内容物的保质期,又提高了薄膜的亮度,从一定程度上代替了铝箔,也具有---、美观及较好的阻隔性能,因此,镀铝膜在复合包装中的应用十分广泛,目前主要应用于饼干等干燥、膨化食品包装以及一些医l药、化妆品的外包装上。

蒸镀方法:在基材表面蒸镀铝的方法有直接蒸镀法和转移法两种。

(1)直接蒸镀法。是被镇基材直接通过真空镀膜机,将金属铝蒸镀在基材表面而形成镀铝薄膜。直接蒸镀法对基材的要求较高,尤其是要形成表面光亮的金属膜,必须要求基材具有较好的表面平滑度。如果纸张的表面较粗糙,要采用直接蒸镀法,在镀铝前需---行表面涂布。另外,在蒸镀过程中基材的挥发物要少。因此直接蒸镀法对基材有较大的局限性,它主要适合于蒸镀塑料薄膜,也可用于纸张的蒸镀,但纸张的要求高,并对纸的定量有一定的限度。



(2)转移法。是借助载体膜(真空镀铝膜)将金属铝层转移到基材的表面而形成镀铝薄膜。转移法是在直接蒸镀法的基础上发展起来的新工艺,它克服了直接蒸镀法对基材要求的局限性,尤其适合于在各种纸及纸板上进行镀铝,也可用于塑料薄膜的镀铝。国外已将转移法应用到布、纤维、皮革等基材的镀铝产品上。我国主要采用转移法生产镀铝纸。


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